德國 HELLMA 晶體材料 氟化鋇BaF? 產品介紹

產品介紹：

在光學材料領域，氟化鋇（Barium Fluoride，BaF?）以其獨特的光學性能和化學穩定性成為紫外、可見光及紅外系統的關鍵材料。Hellma Materials BaF? 產品憑借高純度、低吸收、寬光譜透射及高機械均勻性，廣泛應用于激光系統、光學窗口、閃爍探測器以及科研儀器等領域。

參數接受：

150–200 nm：深紫外仍有良好透射 (>70%)

200–400 nm：UV 區透射率 >90%

400–700 nm：VIS 區透射率 92–94%

1–10 μm：IR 區透射平穩，高達 90%

11 μm 以上：紅外吸收明顯增加

最大直徑可達 ? 100 mm（部分定制可達 ?150 mm）

厚度：1–50 mm

可加工成平板、棱鏡、透鏡坯件、柱體等

表面質量：20-10 到 60-40

平整度：λ/10–λ/4

密度：4.89 g/cm3

熔點：1368 °C

熱膨脹系數：18.5 ×10?? /K

熱導率（25°C）：2.0 W/mK

楊氏模量：57 GPa

應用領域：

1. 激光與光學窗口

激光輸出窗口、透鏡及棱鏡

高功率激光系統中的多波段窗口

光學干涉和成像系統

2. 深紫外光學系統

DUV 光刻、光學顯微鏡

紫外分光光度計

光學傳感與檢測設備

3. 中紅外與紅外探測

紅外光學元件、熱成像鏡頭

氣體傳感器窗口

紅外光譜儀光學部件

4. 閃爍材料應用

γ 射線探測器

核醫學成像設備

安全掃描與輻射監測系統

產品特點：

寬光譜透射：從 DUV 到 IR，跨波段使用無損耗

高純度材料：低雜質，確保激光系統穩定性

大尺寸晶體供應：適合工業和科研級光學系統

內部應力控制嚴格：適合干涉與高精度光學應用

多領域適用性：激光、光刻、紅外成像、閃爍探測均適用

德國 HELLMA 晶體材料 氟化鋇BaF? 產品介紹